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Department Chemie
Technische und Makromolekulare Chemie
Prof. Dr.-Ing. Guido Grundmeier
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PVD (physical vapor deposition) Anlage

Hochvakuum Beschichtungsanlage zu Auftragen dünner Schichten
Die Beschichtungskammer der Anlage ist aus Edelstahl gefertigt und hat die Abmessungen Ø300mm, Höhe 400mm.
Das Gerät biete die Optionen zur thermischen und/oder Elektronenstrahlverdampfung der filmbildenden Substanzen. Zur Verbesserung der Schichteigenschaften können die Targets beheizt oder gekühlt werden. Das Aufwachsen der Schichten wird durch eine Quarz-Mikrowaage in situ aufgezeichnet.

Dip-Coater

Spin-Coater

Die Universität der Informationsgesellschaft