Rasterelektronenmikroskope nutzen einen gebündelten Elektronenstrahl zum Abtasten der Proben. Damit diese negativen Ladungen von der Probenoberfläche abfließen können, müssen die Proben entsprechend leitfähig sein. Viele Materialien (Lackierungen, Klebstoffe, Gläser,…) erfüllen dieses Kriterium nicht. An neueren Rasterelektronenmikroskopen, wie auch das Neon 40 von Zeiss, kann man in solchen Fällen die Abtastparameter variieren. Andere Abtastmodi, andere Blendengröße und vor allem auch sehr niedrige Beschleunigungsspannungen ermöglichen Bilder von schlecht bis nicht-leitfähigen Proben. Jedoch begrenzen diese Einstellungen den Messbetrieb. So ist z.B. der mögliche Vergrößerungsbereich mit sehr niedriger Beschleunigungsspannung sehr eingeschränkt. Zudem benötigen EDX-Analysen jeweils ein Mindestmaß an Beschleunigungsspannung.

Daher werden nicht-leitfähige Proben i.d.R. mittels eines Sputter Coaters mit einer „hauchdünnen“ Metallschicht versehen. Im Arbeitskreis CMP kommt ein Sputter Coater vom Model SCD 500 der Firma BAL-TEC (übernommen von Leica) zum Einsatz. Im Gerät sind zudem ein Planetenantrieb und eine Mikrowaage (QSG 100) verbaut. Mittels der Mikrowaage kann eingestellt werden, wieviel Material aufgetragen wird. Und durch den Planetenantrieb werden normal-große Proben während des Abscheideprozesses um ihre eigene Achse gedreht, wodurch sie gleichmäßiger beschichtet werden.